CHEMICAL CIRCULATOR
半導體制造工藝 化學循環(huán)器NES-333-7
通過無金屬離子溶出污染的在線型冷卻加熱器,實現(xiàn)濕法工藝中不可缺少的直接循環(huán)式藥液恒溫裝置
KELK化學循環(huán)器是用于RCA清洗或濕法蝕刻的藥液的溫度高精度控制,在半導體制造的濕法工藝中不可缺少,為沒有的東西得到了廣泛的愛用。近年來使用藥液的多樣化、高兆
為了滿足比特化帶來的清潔度提高的要求,我們進行了進一步的更新。
(注)高溫藥液用時,推薦使用CS加熱器。
特征:
1.冷卻加熱部傳熱接液部件使用高純度的玻璃狀碳,溶出金屬離子
不用擔心會造成污染,也不需要表面保護膜,所以也不會因剝離而能力下降。
2.由于橡膠O形圈是不直接接觸液體密封結(jié)構(gòu),所以酸性液、堿性液等各藥液
的貼紙材質(zhì)的選定是不需要的。
3.電子冷熱方式,適用于室溫附近的溫度控制且高精度。
4.本裝置符合國際保護標準IP31。
5.裝置包括檢測藥液或冷卻水泄漏的漏液傳感器、檢測異常溫度的溫度
因為內(nèi)置了開關(guān),所以可以放心使用。
■用途
1.用于半導體制造濕法
藥液的溫度管理
●RCA清洗液
●蝕刻液
●光刻工序的顯影液
2.其他領(lǐng)域的各種藥液的溫度管理
●電鍍液、各種表面處理液、其他
(注)不能使用含有臭氧的藥液。
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